포토마스크(Photomask)는 포토리소그래피(Photolithography) 공정을 통해 다양한 기판 위에 정밀한 패턴을 전사하는 데 사용되는 고정밀 마스터 템플릿입니다. 이는 반도체 제조에 필수적인 요소일 뿐만 아니라, MEMS 소자, 광학 부품, 디스플레이 패널, 마이크로플루이딕 바이오칩, 나노 패턴 구조 등 다양한 분야에서도 핵심적인 역할을 수행합니다.
포토마스크는 마스크 블랭크 위에 패턴을 형성한 후, 노광 및 현상, 식각, 세정, 검사 등의 공정을 거쳐 높은 치수 정밀도를 만족시키는 제품으로 완성됩니다. 이처럼 포토마스크는 연구개발(R&D)부터 산업 생산에 이르기까지 전 과정을 아우르는 핵심 소재로, 고객의 정밀한 패턴 구현 요구를 충족시키는 중요한 솔루션입니다.
Stepper 및 scanner(스텝 앤 리피트 방식)를 사용하는 장비에서 사용되는 photomask입니다.
당사는 stepper 렌즈의 축소 배율에 맞추어 다양한 size-reduction ratio의 회로 패턴을 지원합니다.
주로 mirror projection, contact, proximity aligner와 같은 1X 노광 장비에서 사용됩니다.
가장 기본적인 형태의 photomask로, quartz 기판 위에 chrome 또는 OMOG(Opaque MoSi on Glass)와 같은 불투명 물질을 패터닝하여 빛의 투과 여부를 통해 회로 패턴을 형성합니다.
주로 노광 wavelength보다 큰 line width(예: 130nm, 90nm 등)의 공정에 사용되며, 구조가 단순하고 공정 안정성이 높아 다양한 lithography 공정에서 널리 활용됩니다.
최근에는 critical dimension(CD) 성능과 해상도 향상을 위해 OMOG 기반의 고성능 blank도 적용됩니다.
빛의 phase를 조절하여 interference 효과를 유도함으로써, 고해상도와 넓은 Depth of Focus (DOF)를 확보할 수 있는 고급 photomask입니다.
주로 45nm 이하의 미세 lithography 공정에서 사용되며, Immersion lithography와 같은 첨단 노광 기술에서 필수적으로 활용되며, 구조는 Binary Mask보다 복잡하지만, 보다 정밀한 패턴 구현에 유리한 특성을 가집니다.
반도체 패키징 및 PCB 시장에서는 다양한 기판 위에 미세 패턴을 형성하기 위해 포토마스크의 수요가 증가하고 있습니다. 고해상도, 대면적, 정밀 패터닝에 대한 요구에 맞춰 포토마스크는 핵심 솔루션으로 자리 잡고 있으며, 고객의 기술적 요구에 부합하는 맞춤형 대응이 중요해지고 있습니다.
디스플레이 분야에서는 대면적 기판 위에 회로를 형성하기 위해 포토마스크가 설계되어 사용됩니다. 또한, 설비 기준 관리 및 분석 장비의 성능 검증을 위해 해상도 챠트(Resolution Chart), 얼라인먼트 캘리브레이션 마스크(Alignment Calibration Mask), 오버레이 오차 측정 마스크(Overlay Error Measurement Mask) 등과 같은 대형 포토마스크 형식의 캘리브레이션 마스크가 활용됩니다.
